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可视化
一眼胜过千言万语
您的计量系统和量具提供数字。Waferstudio 可提供概览、洞察力，并由此开辟新的视角。对于您的生产链、效率、产量和质量而言。特别是在现代工业要求最严格的领域之一， Waferstudio 提供了一些至关重要的竞争优势：
- 7 种不同的插值方法： 插值方法决定了可视化描述前一工艺步骤的真实程度。因此可以优化流程。因此，Waferstudio 提供七种不同的插值方法（大多数软件解决方案最多提供两种）。E+H 开发的 pykophylatic 插值法特别适合晶圆生产的要求。标准化和可定制的全彩虹色标尺可以直观地估算高度。
- 轮廓：强烈的对比度可以让人一眼就看出基板的变形，并提供逼真的基板图像。
- 阴影技术：人眼习惯于通过阴影在最短时间内发现地形差异。因此，我们开发了阴影技术，即使是最小的缺陷也能清晰可见。
- 光线效果：光线效果可让人直观地感知表面纹理。
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您希望软件不仅能处理数据，还能为复杂的挑战提供解决方案？我们开发的 Waferstudio 专门用于优化您的工艺，因此分析功能可用于各种不同的任务。 其中包括
- 现场总指示读数（TIR）：对于亚微米级几何测量，现场 TIR 值可能比全局 TIR 值更有意义。Waferstudio 可根据您的需要映射单个现场 TIR 测量值。
- 二维切割功能：例如，如果需要更精确地确定凹痕和缺陷，Waferstudio 的二维截面功能非常适合这一目的。
- 测量局部标准偏差：该功能可快速、轻松地确定标准偏差。
- 测量比较：过程控制中的一个基本问题是比较来自完全不同工具的测量结果。通过 Waferstudio 的测量比较功能，只需几步就能获得完美的比较概览，即使是完全不同的测量方法。
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自动化晶圆厂、研发或工程团队的工作流程已经足够复杂。这就是为什么我们的 Waferstudio 系统依赖于简单、直观的基本功能，使您的团队无需培训即可立即使用。
- 导入和导出：数据导入只需拖放。Waferstudio 会评估文件并自动选择合适的导入过滤器。Waferstudio 会分析导入的 3D 数据，并将坐标与最常见的圆形和方形基板类型相匹配。
- 实时计算：功能强大的 Waferstudio 引擎可在最短时间内计算出所有常见晶圆⼏何特征的测量结果。
- 数据编辑：Waferstudio 提供多种编辑选项和环境。例如，您可以导入重复测量值、提取数据、设置标准等。
- 工作空间：您可以将 Waferstudio 整理成自己的 "工作区"，并以清晰的树形结构映射。此外，所有处理过的数据都可以以任何形式从工作区导出。
- 附加功能 多年来，我们与客户合作开发了先进的特殊功能。您可以将这些专门技术用于您的流程中！
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